Domov > Produkty > CVD SIC > Horný uzemňovací krúžok elektródy
Horný uzemňovací krúžok elektródy
  • Horný uzemňovací krúžok elektródyHorný uzemňovací krúžok elektródy

Horný uzemňovací krúžok elektródy

Semicorex horný uzemňovací krúžok elektródy je komponent na riadenie plazmy CVD SiC s ultra vysokou čistotou, ktorý stabilizuje elektrický potenciál a podporuje rovnomernú distribúciu plazmy v pokročilých polovodičových leptacích a depozičných systémoch. Semicorex dodáva presné CVD SiC uzemňovacie krúžky a plazmové polovodičové komponenty po celom svete, pričom ponúka prispôsobené rozmery, elektrické vlastnosti a spoľahlivé globálne dodávky pre popredných výrobcov polovodičových zariadení.*

Odoslať dopyt

Popis produktu

V moderných zariadeniach na spracovanie polovodičovej plazmy je udržiavanie elektrickej stability rovnako dôležité ako kontrola teploty, prietoku plynu a tlaku v komore. Uzemňovací krúžok hornej elektródy Semicorex je kritický komponent orientovaný na plazmu určený na reguláciu elektrického potenciálu, stabilizáciu distribúcie plazmy a podporu rovnomerného spracovania plátkov v leptacích a nanášacích komorách.


Vyrobené z ultra vysokej čistotyChemická depozícia z plynnej fázy (CVD) Karbid kremíka (SiC), Semicorex horný uzemňovací krúžok elektródy funguje v priamom vystavení plazme a reaktívnym procesným prostrediam. Jeho výnimočná čistota, rozmerová stabilita a elektrický výkon z neho robia základný komponent pre pokročilú výrobu integrovaných obvodov, výrobu pamätí a výrobu výkonových polovodičov.


Semicorex poskytuje precízne skonštruované CVD SiC uzemňovacie krúžky s vynikajúcou kvalitou materiálu, predĺženou životnosťou a prispôsobenými elektrickými vlastnosťami pre polovodičové zariadenia novej generácie.

solid SiC ring


Úloha uzemňovacieho krúžku hornej elektródy


Plazmové reaktory sa spoliehajú na starostlivo kontrolované elektromagnetické polia na vytváranie a udržiavanie stabilných podmienok plazmy. Počas spracovania musí zostava hornej elektródy udržiavať vyvážené elektrické prostredie, aby sa zabezpečila konzistentná distribúcia energie iónov na povrchu plátku.


Uzemňovací krúžok hornej elektródy funguje ako presné uzemňovacie rozhranie umiestnené okolo hornej oblasti elektródy. Medzi jeho hlavné povinnosti patrí:


Stabilizácia elektrického potenciálu komory

Podpora rovnomernej tvorby plazmy

Zníženie lokalizovaného skreslenia elektrického poľa

Zlepšenie konzistencie spracovania plátkov

Zlepšenie účinnosti zadržiavania plazmy

Minimalizácia procesných variácií medzi doštičkami


Bez riadnej kontroly uzemnenia môže nestabilita plazmy negatívne ovplyvniť profily leptania, rovnomernosť nanášania a celkový výnos produkcie.


Karbid kremíka CVD s ultra vysokou čistotou


Výkon plazmových komponentov vo veľkej miere závisí od čistoty materiálu a štrukturálnej integrity.


Semicorex horné uzemňovacie krúžky elektródy sú vyrobené z ultra vysokej čistotyCVD karbid kremíkas úrovňou čistoty dosahujúcou:


> 99,9995 % SiC


Táto extrémne vysoká čistota minimalizuje riziká kontaminácie v komore a podporuje pokročilé procesy výroby polovodičov, kde aj stopové nečistoty môžu ovplyvniť výkon zariadenia.


Medzi hlavné výhody patrí:


Vynikajúca odolnosť proti erózii plazmou

Znížená miera opotrebovania

Nižšia kontaminácia časticami

Predĺžené intervaly údržby

Vylepšená doba prevádzkyschopnosti komory


Pri typických prevádzkových podmienkach je životnosť aCVD SiCUzemňovací krúžok môže dosiahnuť:


3 až 5-krát dlhšie ako bežné kremíkové komponenty


Táto predĺžená životnosť znižuje frekvenciu výmeny a znižuje celkové náklady na vlastníctvo výrobcov polovodičov.


Elektrický výkon prispôsobený procesným požiadavkám


Rôzne plazmové systémy vyžadujú rôzne elektrické charakteristiky na dosiahnutie optimálneho výkonu.


Semicorex ponúka prispôsobiteľné rozsahy odporu na podporu rôznych architektúr zariadení a návrhov komôr:


Rozsah elektrického odporu:


0,5 – 10⁶ Ω·cm


Tento široký sortiment umožňuje inžinierom vybrať najvhodnejšie elektrické vlastnosti pre:


Systémy plazmového leptania

Procesy dielektrického leptania

Vodivé spracovanie filmu

Depozičné komory

Pokročilé RF plazmové aplikácie


Prispôsobené elektrické správanie pomáha zlepšiť stabilitu komory a opakovateľnosť procesu.


Presná výroba polovodičových zariadení


Uzemňovacie krúžky horných elektród sa zvyčajne vyznačujú veľkými priemermi a úzkymi rozmerovými toleranciami.


Bežná výrobná konfigurácia zahŕňa:


Vonkajší priemer (OD): približne 400 mm

Rozsah hrúbky: 1–10 mm

Presne opracovaná geometria

Štruktúra povrchu bez defektov


Každý komponent podlieha prísnej výrobnej kontrole, aby sa zabezpečilo:


Rovnomerná hustota

Presné rozmery

Konzistentné elektrické vlastnosti

Štrukturálna spoľahlivosť

Čistota na úrovni polovodičov


Bezchybná konštrukcia je nevyhnutná pre udržanie stabilnej prevádzky plazmy a minimalizáciu rizík kontaminácie.


Aplikácie


Uzemňovacie krúžky horných elektród sa široko používajú v:


Zariadenia na plazmové leptanie

ICP leptacie systémy

CCP plazmové reaktory

Polovodičové depozičné komory

Pokročilá logická výroba

Výroba DRAM a NAND

Výroba výkonových polovodičov

Spracovanie zložených polovodičov


Ich schopnosť kombinovať elektrickú stabilitu s výnimočným odporom plazmy ich robí nepostrádateľnými v moderných polovodičových nástrojoch.


Prečo si vybrať Semicorex?


Semicorex kombinuje pokročilú technológiu CVD SiC, odborné znalosti v oblasti presného obrábania a kontrolu kvality na úrovni polovodičov, čím poskytuje uzemňovacie krúžky, ktoré spĺňajú najnáročnejšie priemyselné štandardy.


Náš inžiniersky tím podporuje prispôsobené rozmery, špecifikácie odporu, povrchové úpravy a návrhy špecifické pre aplikáciu, aby sa zabezpečila bezproblémová integrácia s platformami zákazníckych zariadení.

Hot Tags: Uzemňovací krúžok hornej elektródy, Čína, Výrobcovia, Dodávatelia, Továreň, Prispôsobené, Hromadné, Pokročilé, Odolné
Súvisiaca kategória
Odoslať dopyt
Neváhajte a zadajte svoj dopyt vo formulári nižšie. Odpovieme vám do 24 hodín.
X
Súbory cookie používame, aby sme vám poskytli lepší zážitok z prehliadania, analyzovali návštevnosť stránok a prispôsobili obsah. Používaním tejto stránky súhlasíte s naším používaním cookies. Zásady ochrany osobných údajov