Silikónové komponenty pre suché leptanie

Zariadenie na suché leptanie nepoužíva na leptanie žiadne mokré chemikálie. Primárne zavádza plynné leptadlo do komory cez hornú elektródu s malými priechodnými otvormi. Elektrické pole generované hornou a dolnou elektródou ionizuje plynné leptadlo, ktoré potom reaguje s materiálom, ktorý sa má leptať na plátku, pričom vznikajú prchavé látky. Tieto prchavé látky sa potom extrahujú z reakčnej komory, čím sa dokončí proces leptania.

Reakcia suchého leptania prebieha v procesnej komore, ktorá primárne pozostáva zkremíkové komponenty, vrátane silikónového výfukového krúžku, silikónového vonkajšieho krúžku, silikónovej sprchovej hlavice, silikónového zaostrovacieho krúžku a silikónového ochranného krúžku.

V suchej leptacej komore je kremíkový plátok typicky umiestnený v kremíkom zaostrovacom krúžku. Táto kombinácia slúži ako kladná elektróda, umiestnená pod leptacou komorou. Ako negatívna elektróda slúži kremíkový disk s husto uloženými malými priechodnými otvormi umiestnený nad komorou. Vonkajší silikónový krúžok podporuje hornú elektródu a ďalšie súvisiace komponenty. Horná a spodná elektróda sú v priamom kontakte s plazmou. Keď plazma leptá kremíkový plátok, opotrebováva aj horné a spodné kremíkové elektródy. Spodná elektróda (zaostrovací krúžok) sa počas procesu leptania postupne stenčuje a vyžaduje výmenu, keď hrúbka dosiahne určitú úroveň. Okrem toho sú rovnomerne rozdelené otvory v hornej elektróde (sprchovej hlave) korodované plazmou, čo spôsobuje zmeny veľkosti otvorov. Keď tieto variácie dosiahnu určitú úroveň, je potrebné ich nahradiť. Typicky sa výmenný cyklus vyžaduje každé 2-4 týždne používania.

Táto časť konkrétne vysvetľuje úlohu kremíkového zaostrovacieho krúžku (spodnej elektródy). Riadi hrúbku plazmového plášťa, čím optimalizuje rovnomernosť bombardovania iónmi. Plazmový obal, ne-neutrálna oblasť medzi plazmou a stenou cievy, je kľúčovou a jedinečnou oblasťou v plazme. Plazma pozostáva z rovnakého počtu kladných iónov a elektrónov. Pretože elektróny cestujú rýchlejšie ako ióny, dostanú sa najskôr k stene cievy. Plazma je kladne nabitá vzhľadom na stenu cievy. Elektrické pole plášťa urýchľuje ióny v plazme (pozitívna-negatívna príťažlivosť) a dodáva iónom vysokú energiu. Tento vysokoenergetický tok iónov umožňuje poťahovanie, leptanie a naprašovanie.

Impedancia plátku ovplyvňuje hrúbku plazmového plášťa (čím je impedancia nižšia, tým je plášť hrubší). Impedancia v strede plátku je odlišná od impedancie na okraji, čo vedie k nerovnomernej hrúbke plazmového plášťa na okraji. Tento nerovnomerný plazmový plášť urýchľuje ióny, ale tiež vychyľuje bod bombardovania iónmi, čím sa znižuje presnosť leptania. Preto je potrebný zaostrovací krúžok na kontrolu hrúbky plazmového plášťa, čím sa optimalizuje smer bombardovania iónmi a zlepšuje sa presnosť leptania.

Ako príklad uvedieme zaostrovací krúžok okolo plátku, zatiaľ čo kremeň je so svojou vysokou čistotou optimálny na dosiahnutie nízkej kontaminácie kovov, rýchlo koroduje v plazme fluoridového plynu, čo má za následok krátku životnosť. To nielen zvyšuje náklady, ale vyžaduje aj prestoje v dôsledku výmeny, čím sa znižuje doba prevádzkyschopnosti zariadenia. Keramika, hoci má dostatočne dlhú životnosť, je vystavená vysokoenergetickému bombardovaniu iónmi. Naprašovaný hliník reaguje s fluórom v plazme za vzniku neprchavých fluoridov (ako je fluorid hlinitý). Ak sa nedajú odstrániť a uložiť na povrch zariadenia alebo fotorezist na okraji plátku, bránia následnému odstráneniu vytvorených fluoridov a fotorezistu, čo má vplyv na výťažnosť produktu. Vhodnejšími materiálmi sú monokryštálový kremík alebo karbid kremíka. Avšak monokryštálový kremík je lacný, ale má krátku životnosť, zatiaľ čo karbid kremíka je drahší, ale má o niečo dlhšiu životnosť. Kompromis medzi týmito dvoma možnosťami závisí od konkrétnych okolností. Napríklad, ak je využitie zariadenia vysoké a doba prevádzky je kritická, mal by sa použiť karbid kremíka. Ak náklady na opotrebovanie súčiastky nie sú príliš vysoké, mal by sa použiť monokryštálový kremík.

Semicorex ponúka vysokú kvalituSilikónové diely. Ak máte akékoľvek otázky alebo potrebujete ďalšie podrobnosti, neváhajte nás kontaktovať.

Kontaktné telefónne číslo +86-13567891907

E-mail: sales@semicorex.com