Čína Špeciálny grafit Výrobcovia, dodávatelia, továreň

Špeciálny grafit je druh umelého grafitu, ktorý sa spracuje. Je to dôležitý materiál, ktorý je nevyhnutný vo všetkých aspektoch polovodičového a fotovoltaického výrobného procesu, vrátane rastu kryštálov, implantácie iónov, epitaxie atď.

1. Rast kryštálov kremíka (SIC)

Karbid kremíka, ako polovodičový materiál tretej generácie, sa široko používa v nových energetických vozidlách, 5G komunikáciách a ďalších oblastiach. V 6-palcovom a 8-palcovom procese rastu kryštálov SIC sa izostatický grafit používa primárne na výrobu nasledujúcich kľúčových komponentov:

Grafit Crucible: To sa dá použiť na syntézu suroviny prášku SIC a tiež pomáha pri raste kryštálov pri vysokých teplotách. Jeho vysoká čistota, odolnosť proti vysokej teplote a rezistencia na tepelný otras zaisťuje stabilné prostredie rastu kryštálov.

Ohrievač grafitu: Toto poskytuje rovnomerné rozloženie tepla a zabezpečuje vysokokvalitný rast kryštálov SIC.

Izolačná trubica: Tým sa zachováva rovnomernosť teploty v kryštálovej rastovej peci a znižuje tepelné straty.

2. Iónová implantácia

Implantácia iónov je kľúčovým procesom pri výrobe polovodičov. Izostatický grafit sa primárne používa na výrobu nasledujúcich komponentov v iónových implantátoch:

GRATHITE GETTER: Tým sa absorbuje ióny nečistôt v iónovom lúči, čím zabezpečuje čistotu iónov.

Grafitové zaostrenie Ring: Tým sa zameriava iónový lúč, zlepšuje presnosť a účinnosť iónového implantátu. Grafitové podnosy substrátu: Používa sa na podporu kremíkových doštičiek a udržiavanie stability a konzistentnosti počas implantácie iónov.

3. Proces epitaxie

Proces epitaxie je kritickým krokom vo výrobe polovodičových zariadení. Isostaticky stlačený grafit sa používa primárne na výrobu nasledujúcich komponentov v epitaxných peciach:

Graphitové zásobníky a susceptory: Používa sa na podporu kremíkových doštičiek, poskytovanie stabilnej podpory a rovnomerného vedenia tepla počas procesu epitaxie.

4. Ďalšie aplikácie výroby polovodičov

Isostaticky stlačený grafit sa tiež široko používa v nasledujúcich aplikáciách výroby polovodičov:

Proces leptania: Používa sa na výrobu grafitových elektród a ochranných komponentov pre leptače. Jeho odolnosť proti korózii a vysoká čistota zabezpečujú stabilitu a presnosť v procese leptania.

Chemické ukladanie pary (CVD): Používa sa na výrobu grafitských zásobníkov a ohrievačov v CVD peciach. Jeho vysoká tepelná vodivosť a vysoký teplo rezistencia zabezpečujú rovnomerné ukladanie tenkého filmu.

Testovanie obalov: Používa sa na výrobu testovacích príslušenstiev a podnosov pre nosiče. Jeho vysoká presnosť a nízka kontaminácia zabezpečujú presné výsledky testu.

Výhody grafitských častí

Vysoká čistota:

Použitím vysokokvalitného izostaticky stlačeného grafitového materiálu s extrémne nízkym obsahom nečistoty spĺňa prísne požiadavky na čistotu materiálu výroby polovodičov. Vlastná čistiaca peca spoločnosti môže očistiť grafit do pod 5 ppm.

Vysoká presnosť:

Vďaka pokročilým spracovateľným zariadením a technológiou zrelého spracovania zabezpečuje, aby sa rozmerová presnosť a tolerancie formy a polohy dosiahli na úrovni mikrónu.

Vysoký výkon:

Produkt má vynikajúcu vysokú teplotnú odolnosť, odolnosť proti korózii, odolnosť proti žiareniu, vysokú tepelnú vodivosť a ďalšie vlastnosti, ktoré spĺňajú rôzne tvrdé pracovné podmienky výroby polovodičov.

Prispôsobená služba:

Prispôsobené služby navrhovania a spracovania produktov môžu byť poskytované podľa potrieb zákazníka, aby vyhovovali potrebám rôznych scenárov aplikácií.

Typy grafitských výrobkov

(1) izostatický grafit
Izostatické grafitové výrobky sa vyrábajú studeným izostatickým lisovaním. V porovnaní s inými metódami formovania majú tégliky produkované týmto procesom vynikajúcu stabilitu. Grafitové produkty potrebné pre jednotlivé kryštály SIC majú veľkú veľkosť, čo povedie k nerovnomernej čistote na povrchu a vo vnútri grafitových výrobkov, ktoré nemôžu spĺňať požiadavky na použitie. Aby sa splnili požiadavky na hlboké čistenie grafitových výrobkov s veľkou veľkosťou požadovaných pre jednotlivé kryštály SIC, by sa mal prijať jedinečný vysokoteplotný termochemický proces čistenia impulzov na dosiahnutie hlbokého a rovnomerného čistenia grafitových produktov s veľkým alebo špeciálnym tvarom, aby čistota povrchu a jadra produktu mohla spĺňať požiadavky na použitie.

(2) Porézny grafit
Porézny grafit je typ grafitu s vysokou pórovitosťou a nízkou hustotou. V procese rastu kryštálov SIC hrá porézny grafit významnú úlohu pri zlepšovaní uniformity prenosu hmoty, čím sa znižuje rýchlosť výskytu fázovej zmeny a zlepšuje tvar kryštálu.
Použitie porézneho grafitu zlepšuje rovnomernosť teploty a teploty v oblasti suroviny, zvyšuje rozdiel v axiálnej teplote v tégliku a má tiež určitý vplyv na oslabenie rekryštalizácie povrchu suroviny; V rastovej komore pórovitý grafit zlepšuje stabilitu toku materiálu počas celého rastu, zvyšuje pomer C/Si v oblasti rastu, pomáha znižovať pravdepodobnosť fázovej zmeny a zároveň hrá pórovitý grafit úlohu pri zlepšovaní kryštálového rozhrania.

(3) Felt
Mäkká plsť a tvrdé cítili, ako zohrávajú úlohu dôležitých tepelných izolačných materiálov v raste SIC Crystal a Epitaxial spojenia.

(4) grafitová fólia
Grafitový papier je funkčný materiál vyrobený z vločného grafitu s vysokým obsahom uhlíka prostredníctvom chemického ošetrenia a vysokoteplotného valivého. Má vysokú tepelnú vodivosť, elektrickú vodivosť, flexibilitu a odolnosť proti korózii.

(5) Kompozitné materiály
Termálne pole uhlíka a uhlíka je jedným z jadrových spotrebiteľov vo výrobe fotovoltaickej jednej kryštálovej pece.

Produkcia Semicorexu

Semicorex vyrába grafit s malými šaržami prispôsobenými výrobnými metódami. Vďaka výrobe drobných šarží robí produkty kontrolovateľnejšími. Celý proces je riadený programovateľnými logickými radičmi (PLC), zaznamenali sa podrobné údaje o procese, čo umožňuje úplnú sledovateľnosť životného cyklu.

Počas celého procesu praženia sa konzistencia dosiahla v odporu na rôznych miestach a udržiavaná prísna regulácia teploty. To zaisťuje homogenitu a spoľahlivosť grafitových materiálov.

Semicorex využíva plne izostatickú tlačovú technológiu, ktorá sa líši od ostatných dodávateľov; Znamená to, že grafit je sama ultra uniforma a je obzvlášť dôležitý v epitaxiálnych procesoch. Uskutočnili sa komplexné testy na uniformitu materiálu, vrátane hustoty, odporu, tvrdosti, pevnosti ohybu a pevnosti v rôznych vzorkách.