Hlavňové susceptory sú kritickým komponentom používaným v rôznych procesoch výroby polovodičov, ako sú LPE, MOCVD. Semicorex nanáša karbid kremíka vysokej čistoty v tenkých vrstvách na grafit pomocou procesu chemického vylučovania z plynnej fázy (CVD), vďaka čomu je tento materiál polovodičovej triedy s vynikajúcou tepelnou stabilitou, chemickou odolnosťou a odolnosťou proti opotrebovaniu, vďaka čomu sú ideálne na použitie vo vysoko teplotné procesy.
● Vysoko čistý grafit potiahnutý SiC
● Vynikajúca tepelná odolnosť a chemická odolnosť
● Vysoká tepelná rovnomernosť
● Vynikajúca odolnosť proti opotrebovaniu
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor je precízne navrhnutý komponent prispôsobený pre pokročilé procesy výroby polovodičov, najmä epitaxiu. Naše produkty majú dobrú cenovú výhodu a pokrývajú väčšinu európskych a amerických trhov. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite je špecializovaný komponent navrhnutý na použitie v procese epitaxie, najmä pri prenášaní plátkov. Kontaktujte nás ešte dnes a dozviete sa viac o tom, ako vám môžeme pomôcť s vašimi potrebami spracovania polovodičových doštičiek.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor pre LPE epitaxný rast je vysoko výkonný produkt navrhnutý tak, aby poskytoval konzistentný a spoľahlivý výkon po dlhšiu dobu. Jeho rovnomerný tepelný profil, laminárny profil prúdenia plynu a zabránenie kontaminácii z neho robia ideálnu voľbu pre rast vysokokvalitných epitaxných vrstiev na doštičkových čipoch. Jeho prispôsobiteľnosť a nákladová efektívnosť z neho robia vysoko konkurencieschopný produkt na trhu.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex Barrel Susceptor Epi System je vysoko kvalitný produkt, ktorý ponúka vynikajúcu priľnavosť povlaku, vysokú čistotu a odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote. Jeho rovnomerný tepelný profil, laminárny profil prúdenia plynu a zabránenie kontaminácii z neho robia ideálnu voľbu pre rast epixiálnych vrstiev na doštičkových čipoch. Jeho nákladová efektívnosť a prispôsobiteľnosť z neho robia vysoko konkurencieschopný produkt na trhu.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System je inovatívny produkt, ktorý ponúka vynikajúci tepelný výkon, rovnomerný tepelný profil a vynikajúcu priľnavosť povlaku. Jeho vysoká čistota, odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote a odolnosť proti korózii z neho robia ideálnu voľbu pre použitie v polovodičovom priemysle. Jeho prispôsobiteľné možnosti a nákladová efektívnosť z neho robia vysoko konkurencieschopný produkt na trhu.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor je vysoko odolný a spoľahlivý produkt na pestovanie epixálnych vrstiev na doštičkových čipoch. Jeho odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote a vysoká čistota ho predurčujú na použitie v polovodičovom priemysle. Jeho rovnomerný tepelný profil, laminárny profil prúdenia plynu a zabránenie kontaminácii z neho robia ideálnu voľbu pre vysoko kvalitný rast epixálnej vrstvy.
Čítaj viacOdoslať dopyt