Čo je systém MOCVD?

MOCVD, známa ako kovovo-organická chemická depozícia z pár (MOCVD), je technika na pestovanie tenkých polovodičových filmov na substráte. Pomocou MOCVD je možné nanášať veľa nano vrstiev s veľkou presnosťou, každú s kontrolovanou hrúbkou, aby sa vytvorili materiály so špecifickými optickými a elektrickými vlastnosťami.

Systém MOCVD je typ systému chemického nanášania pár (CVD), ktorý využíva kovové organické prekurzory na nanášanie tenkých vrstiev materiálu na substrát. Systém pozostáva z nádoby reaktora, systému dodávky plynu, držiaka substrátu a systému regulácie teploty. Kovové organické prekurzory sa zavádzajú do nádoby reaktora spolu s nosným plynom a teplota sa starostlivo kontroluje, aby sa zabezpečil rast vysokokvalitného tenkého filmu.

Použitie MOCVD má niekoľko výhod oproti iným technikám nanášania. Jednou z výhod je, že umožňuje nanášanie zložitých materiálov s presnou kontrolou nad hrúbkou a zložením tenkých vrstiev. To je dôležité najmä pri výrobe vysokovýkonných polovodičových zariadení, kde materiálové vlastnosti tenkých vrstiev môžu mať významný vplyv na výkon zariadenia.

Ďalšou výhodou MOCVD je, že sa dá použiť na nanášanie tenkých vrstiev na rôzne substráty vrátane kremíka, zafíru a arzenidu gália. Táto flexibilita z neho robí nevyhnutný proces pri výrobe širokého spektra polovodičových zariadení, od počítačových čipov až po LED diódy.

Systémy MOCVD sú široko používané v polovodičovom priemysle a boli nápomocné pri vývoji mnohých pokročilých technológií. Napríklad MOCVD sa používa na výrobu vysoko účinných LED diód pre osvetľovacie a zobrazovacie aplikácie, ako aj vysokovýkonných solárnych článkov pre fotovoltaické aplikácie.