Vysoko čistý grafitový prášok

Semicorex Vysoká čistotagrafitprášok je kritickým materiálom v polovodičovom priemysle. Vďaka výnimočnej úrovni čistoty a vynikajúcim fyzikálnym a chemickým vlastnostiam je tento materiál nenahraditeľný pre aplikácie vyžadujúce prísne výkonnostné normy.

Kľúčové vlastnosti

• Výnimočná čistota: Vysoko čistý grafitový prášok zvyčajne dosahuje obsah uhlíka presahujúci 99,9 %, čo zaisťuje minimálnu kontamináciu počas procesu rastu kryštálov. Táto úroveň čistoty je nevyhnutná na zachovanie integrity a kvality polovodičových doštičiek.
• Vynikajúca tepelná vodivosť: Vynikajúca tepelná vodivosť materiálu umožňuje rovnomernú distribúciu tepla, čo je rozhodujúce pri udržiavaní kontrolovaného prostredia pre rast polovodičových kryštálov.
• Odolnosť voči vysokej teplote: Vysoko čistý grafitový prášok dokáže odolávať extrémnym teplotám bez degradácie, vďaka čomu je ideálny pre vysokoteplotné pece používané pri výrobe polovodičov.
• Chemická stabilita: Jeho odolnosť voči chemickým reakciám zaisťuje trvanlivosť a spoľahlivosť pri dlhodobom vystavení drsným podmienkam vrátane vysokých teplôt a reaktívnych prostredí.
• Prispôsobiteľná veľkosť častíc: Prášok je k dispozícii v rôznych veľkostiach častíc a môže byť prispôsobený špecifickým potrebám rôznych procesov rastu polovodičových kryštálov.

Aplikácie pri raste polovodičových kryštálov

1. Rast kryštálov SiC:

Vysoko čistý grafitový prášok sa vo veľkej miere používa pri raste kryštálov karbidu kremíka (SiC), čo je proces rozhodujúci pre výrobu pokročilých polovodičových zariadení. Prášok sa používa pri výrobe poréznych grafitových komponentov, ako sú tégliky a izolačné materiály, ktoré podporujú rast vysoko kvalitných kryštálov SiC. Jeho vysoká čistota minimalizuje nečistoty, čím zlepšuje elektrické a tepelné vlastnosti výsledných kryštálov.

2. Rast fotovoltaických kremíkových kryštálov:

Vo fotovoltaickom priemysle sa vysoko čistý grafitový prášok používa pri výrobe komponentov na rast monokryštálov a polykryštalického kremíka. Tieto komponenty, ako sú formy a ohrievače, zaisťujú konzistentnú kvalitu a výnos pri výrobe kremíkových plátkov pre solárne články.

3. Ukladanie epitaxnej vrstvy:

Materiál je tiež neoddeliteľnou súčasťou epitaxných procesov, kde sú potrebné presné tepelné a chemické podmienky na rast vrstiev polovodičového materiálu. Vysoko čistý grafitový prášok prispieva k výrobe komponentov epitaxie, ako sú susceptory, ktoré vyžadujú výnimočný tepelný a chemický výkon.

4. Tepelná izolácia na báze grafitu:

Vo vysokoteplotných peciach používaných na rast kryštálov sa grafitový prášok používa na vytváranie izolačných materiálov, ktoré udržujú stabilné tepelné prostredie. To zvyšuje efektivitu procesu a zaisťuje rovnomernosť pestovaných kryštálov.

Vysoká čistota Semicorexugrafitprášok vyniká svojou bezkonkurenčnou kvalitou a dizajnom riadeným aplikáciou. Naše prísne výrobné procesy zaisťujú konzistentnosť, vysokú čistotu a prispôsobené špecifikácie tak, aby spĺňali náročné požiadavky polovodičového priemyslu.

Semicorex Vysoko čistý grafitový prášok je základným materiálom pri raste polovodičových kryštálov, ktorý ponúka bezkonkurenčný výkon v náročných aplikáciách. Jeho výnimočné tepelné, chemické a štrukturálne vlastnosti zabezpečujú úspešnú výrobu pokročilých polovodičových súčiastok. Vďaka svojmu záväzku k inováciám a kvalite poskytuje Semicorex dôveryhodné riešenie pre výrobcov, ktorých cieľom je dosiahnuť dokonalosť v polovodičových procesoch.