Čo je to loď SiC a aké sú jej rôzne výrobné procesy?

1. Rôzne výrobné procesySiC čln

(1) Potiahnutie vrstvouSiC filmna povrchu grafitukrištáľové člnyprostredníctvom CVD

Tento typ člna má grafitové jadro, ktoré je opracované v jednom kuse. všakgrafit je poréznya náchylné na tvorbu častíc, čo si vyžaduje použitie aFilmový povlak SiCna jeho povrchu. V dôsledku nesúladu koeficientu tepelnej rozťažnosti (CTE) medzi grafitovým telom aSiC filmpovlak sa pravdepodobne po viacerých cykloch zahrievania a chladenia odlupuje, čo vedie ku kontaminácii časticami. Tieto člny sú najlacnejšie a majú životnosť približne jeden rok.

(2) Potiahnutie vrstvouSiC filmna rekryštalizovanomSiC krištáľové člny

RekryštalizovanéSiC člnysú tiež porézne a môžu ľahko vytvárať častice. Preto jednotlivé zložky rekryštalizovaliSiC člnymusia byť predtvarované, spekané a potom oddelene opracované. Potom sa komponenty spoja pri vysokých teplotách pomocou Si pasty. Po zložení do jedného člna aSiC filmsa aplikuje prostredníctvom CVD. Toto sa rekryštalizovaloSiC člnmá najdlhší výrobný proces a je nákladný, ale povrchCVD povlakmôže dôjsť aj k poškodeniu, pričom životnosť je približne tri roky.

(3)MonolitickýSiC krištáľové člny

Títočlnysú celé zložené z materiálu SiC. Prášok SiC musí byť formovaný a spekaný do tvaru monolitickej lode. Extrémne nákladné, sú veľmi odolné a menej pravdepodobné, že budú vytvárať častice. Tieto člny však obsahujú 10-15% voľného kremíka, ktorý je náchylný na eróziu fluórom a chlórom, čo vedie ku kontaminácii časticami.

2. Prečo sa neodporúča chemické čistenie?

V súhrne preSiC člnypotiahnuté aSiC film prostredníctvom CVD, povrchový náter je pri chemickom čistení náchylný na odlupovanie, čo spôsobuje kontamináciu časticami. Pre monolitickéSiC člnyktoré obsahujú malé množstvo voľného kremíka, vystavenie plynom obsahujúcim fluór alebo chlór môže viesť k erózii a tvorbe častíc, a tým spôsobiť kontamináciu.**