Čo je nízkoteplotné plazmové leptanie?

Plazma je štvrté skupenstvo hmoty a zohráva kľúčovú úlohu v priemyselných aplikáciách aj v prírodných javoch. Napríklad plazma je prítomná v bleskoch a hojne sa vytvára na povrchu slnka, kde teplota jadra dosahuje ohromujúcich 13 500 °C. Táto vysokoteplotná plazma nie je vhodná pre väčšinu priemyselných výrobných procesov.

Na druhej strane, nízkoteplotná plazma je umelo vytvorená forma plazmy, ktorá na urýchlenie chemických reakcií využíva energiu, nie teplo. Jeho teplota sa zvyčajne pohybuje od izbovej teploty po niekoľko stoviek stupňov Celzia, vďaka čomu je vysoko účinný pre rôzne aplikácie.

Kroky na vytvorenie umelej plazmy:

1. Znížte tlak v komore: Začnite pomocou vákuovej pumpy na zníženie tlaku v dutine. Dosiahnutie nízkeho tlaku je nevyhnutné pre stabilizáciu plazmy a uľahčenie ionizácie plynu.

2. Zaveďte procesný plyn: Do dutiny vstreknite špecifické procesné plyny. Tieto plyny slúžia ako primárny zdroj častíc v plazme.

3. Vybuďte plazmu: Použite energiu na ionizáciu plynu, čím sa efektívne vytvorí plazma.

4. Deaktivujte plazmu a obnovte atmosférický tlak: Po dokončení požadovaných reakcií vypnite plazmu a vráťte komoru na atmosférický tlak.

Aplikácie nízkoteplotnej plazmy vo výrobe polovodičov:

Nízkoteplotná plazma je nenahraditeľná pri výrobe polovodičov, slúži kritickým funkciám pri suchom leptaní, fyzikálnom naparovaní (PVD), chemickom naparovaní (CVD), nanášaní atómovej vrstvy (ALD), implantácii iónov, spopolňovaní a detekcii koncových bodov. Jeho všestrannosť a efektívnosť z neho robí základný nástroj v priemysle.

Semicorex ponúkavysokokvalitné riešenia pre plazmové leptanie. Ak máte akékoľvek otázky alebo potrebujete ďalšie podrobnosti, neváhajte nás kontaktovať.

Kontaktné telefónne číslo +86-13567891907

E-mail: sales@semicorex.com