Produkty

Pokiaľ ide o procesy manipulácie s plátkami, ako je epitaxia a MOCVD, najlepšou voľbou je vysokoteplotný povlak SiC spoločnosti Semicorex pre komory na plazmové leptanie. Naše nosiče poskytujú vynikajúcu tepelnú odolnosť, rovnomernú tepelnú rovnomernosť a trvanlivú chemickú odolnosť vďaka nášmu jemnému kryštálovému povlaku SiC.

ICP plazmový leptací podnos od Semicorex je navrhnutý špeciálne pre procesy manipulácie s plátkami pri vysokej teplote, ako je epitaxia a MOCVD. Vďaka stabilnej odolnosti proti oxidácii pri vysokej teplote až do 1600 °C naše nosiče poskytujú rovnomerné tepelné profily, laminárne vzory prúdenia plynu a zabraňujú kontaminácii alebo difúzii nečistôt.

Nosič SiC Coated od spoločnosti Semicorex pre systém ICP Plazma Etching System je spoľahlivým a nákladovo efektívnym riešením pre procesy manipulácie s vysokoteplotnými plátkami, ako je epitaxia a MOCVD. Naše nosiče sú vybavené jemným kryštálovým povlakom SiC, ktorý poskytuje vynikajúcu tepelnú odolnosť, rovnomernú tepelnú rovnomernosť a trvácnu chemickú odolnosť.

Susceptor Semicorex pre indukčne viazanú plazmu (ICP) potiahnutý karbidom kremíka je navrhnutý špeciálne pre procesy manipulácie s plátkami pri vysokej teplote, ako je epitaxia a MOCVD. Vďaka stabilnej odolnosti voči oxidácii pri vysokej teplote až do 1600 °C naše nosiče zaisťujú rovnomerné tepelné profily, laminárne vzory prúdenia plynu a zabraňujú kontaminácii alebo difúzii nečistôt.

ICP držiak leptacieho plátku Semicorex je dokonalým riešením pre procesy manipulácie s plátkami pri vysokej teplote, ako je epitaxia a MOCVD. Vďaka stabilnej odolnosti voči oxidácii pri vysokej teplote až do 1600 °C naše nosiče zaisťujú rovnomerné tepelné profily, laminárne vzory prúdenia plynu a zabraňujú kontaminácii alebo difúzii nečistôt.

ICP etching Carrier Plate od Semicorexu je dokonalým riešením pre náročnú manipuláciu s plátkami a procesy nanášania tenkých vrstiev. Náš produkt poskytuje vynikajúcu odolnosť voči teplu a korózii, rovnomernú tepelnú rovnomernosť a laminárne vzory prúdenia plynu. Vďaka čistému a hladkému povrchu je náš nosič ideálny na manipuláciu s nedotknutými oblátkami.