ICP plazmový leptací podnos od Semicorex je navrhnutý špeciálne pre procesy manipulácie s plátkami pri vysokej teplote, ako je epitaxia a MOCVD. Vďaka stabilnej odolnosti proti oxidácii pri vysokej teplote až do 1600 °C naše nosiče poskytujú rovnomerné tepelné profily, laminárne vzory prúdenia plynu a zabraňujú kontaminácii alebo difúzii nečistôt.
Čítaj viacOdoslať dopyt