Epitaxný disk potiahnutý SiC

Semicorex SiC Coated Epitaxy Disc ponúka rad jedinečných výhod v rámci polovodičového priemyslu, ktoré možno ďalej rozpracovať nasledovne:

Nízky koeficient tepelnej rozťažnosti: Epitaxný disk potiahnutý SiC sa môže pochváliť výrazne nízkym koeficientom tepelnej rozťažnosti, ktorý je kritický pri spracovaní polovodičov, kde je rozmerová stabilita nevyhnutná. Táto vlastnosť zaisťuje, že epitaxný disk potiahnutý SiC podlieha minimálnej expanzii alebo kontrakcii pri zmenách teploty, čím sa zachováva integrita polovodičovej štruktúry počas vysokoteplotných procesov.

Vysokoteplotná oxidačná odolnosť: Tento SiC potiahnutý epitaxný disk, navrhnutý s pozoruhodnou odolnosťou proti oxidácii, si zachováva svoju štrukturálnu integritu pri zvýšených teplotách, vďaka čomu je ideálnym komponentom pre aplikácie v rámci vysokoteplotných polovodičových procesov, kde je tepelná stabilita rozhodujúca.

Hustý a jemne porézny povrch: Povrch SiC Coated Epitaxy Disc je charakteristický svojou hustotou a jemnou pórovitosťou, ktorá poskytuje optimálnu povrchovú textúru pre priľnavosť rôznych povlakov a zaisťuje efektívne odstraňovanie materiálu počas spracovania polovodičových doštičiek bez poškodenia jemného povrchu.

Vysoká tvrdosť: Povlak dodáva grafitovému disku vysokú úroveň tvrdosti, ktorá je odolná voči poškriabaniu a opotrebovaniu, čím sa predlžuje životnosť epitaxného disku potiahnutého SiC a znižuje sa frekvencia výmeny v prostredí výroby polovodičov.

Odolnosť voči kyselinám, zásadám, soliam a organickým činidlám: SiC povlak CVD SiC povlaku SiC Coated Epitaxy Disc ponúka vynikajúcu odolnosť voči širokému spektru korozívnych činidiel vrátane kyselín, zásad, solí a organických činidiel, vďaka čomu je vhodný na použitie v prostrediach, kde chemická expozícia je problémom, čím sa zvyšuje spoľahlivosť a životnosť zariadenia.

Povrchová vrstva Beta-SiC: Povrchová vrstva SIC (karbid kremíka) epitaxného disku potiahnutého SiC pozostáva z beta-SiC, ktorý má tvárne centrovanú kubickú (FCC) kryštálovú štruktúru. Táto kryštálová štruktúra prispieva k výnimočným mechanickým a tepelným vlastnostiam povlaku, ponúka vynikajúcu pevnosť a tepelnú vodivosť disku, čo je nevyhnutné pre zariadenia na spracovanie polovodičov.