Diskový prijímač SiC

S hlbokým záväzkom ku kvalite a inováciám nastavuje Semicorex ultračistý diskový susceptor SiC nový štandard pre výkon v epitaxných, MOCVD a RTP zariadeniach. Kombináciou výnimočnej odolnosti proti tepelným šokom, vynikajúcej tepelnej vodivosti, vynikajúcej chemickej odolnosti a ultra vysokej čistoty umožňujú tieto skonštruované komponenty výrobcom polovodičov dosiahnuť bezkonkurenčnú účinnosť, spoľahlivosť a kvalitu produktov. Prispôsobiteľné riešenia Semicorex ďalej zaisťujú, že každá aplikácia tepelného spracovania ťaží z optimalizovaných, precízne skonštruovaných komponentov navrhnutých tak, aby spĺňali jej jedinečné požiadavky.

Vynikajúca odolnosť proti tepelným šokom:Diskový susceptor SiC vyniká tým, že odoláva rýchlym teplotným výkyvom, ktoré sú bežné pri RTP a iných vysokoteplotných procesoch. Táto výnimočná odolnosť proti tepelným šokom zaisťuje štrukturálnu integritu a dlhú životnosť, minimalizuje riziko poškodenia alebo zlyhania v dôsledku náhlych zmien teploty a zvyšuje spoľahlivosť zariadenia na tepelné spracovanie.

Vynikajúca tepelná vodivosť:V aplikáciách tepelného spracovania je rozhodujúci efektívny prenos tepla. Vynikajúca tepelná vodivosť diskového susceptora SiC zaisťuje rýchle a rovnomerné zahrievanie a chladenie, čo je nevyhnutné pre presnú reguláciu teploty a jednotnosť procesu. To vedie k zlepšeniu efektívnosti procesu, skráteniu doby cyklu a kvalitnejším polovodičovým doštičkám.

Výnimočná chemická odolnosť:SiC diskový susceptor poskytuje vynikajúcu odolnosť voči širokému spektru korozívnych a reaktívnych chemikálií používaných pri epitaxii, MOCVD a RTP procesoch. Táto chemická inertnosť chráni základný grafit pred degradáciou, zabraňuje kontaminácii procesného prostredia a zaisťuje konzistentný výkon počas dlhších prevádzkových období.

Ultra vysoká čistota: Diskový susceptor SiC je vyrobený podľa štandardov ultra vysokej čistoty pre grafitový aj SiC povlak, čím sa predchádza potenciálnej kontaminácii a zabezpečuje sa výroba polovodičových zariadení bez defektov. Tento záväzok k čistote znamená vyššie výnosy a zlepšený výkon zariadenia.

Dostupnosť komplexných tvarov:Pokročilé výrobné možnosti v spoločnosti Semicorex umožňujú výrobu diskového susceptora SiC v zložitých tvaroch prispôsobených špecifickým požiadavkám zákazníkov. Táto flexibilita umožňuje navrhovať vlastné riešenia, ktoré spĺňajú presné potreby rôznych aplikácií tepelného spracovania, čím sa zvyšuje efektivita procesu a kompatibilita zariadení.

Použiteľné v oxidačných atmosférach:Robustný povlak CVD SiC poskytuje vynikajúcu ochranu proti oxidácii, čo umožňuje, aby susceptor SiC disk spoľahlivo fungoval v oxidačnom prostredí. Tým sa rozširuje ich použiteľnosť na širšiu škálu tepelných procesov, čím sa zabezpečuje všestrannosť a prispôsobivosť.

Robustný, opakovateľný výkon:Diskový susceptor SiC, navrhnutý pre vysokoteplotné a vákuové prostredie, ponúka robustný a opakovateľný výkon. Vďaka svojej odolnosti a konzistencii sú ideálne pre kritické aplikácie tepelného spracovania, znižujú prestoje, náklady na údržbu a zabezpečujú dlhodobú prevádzkovú spoľahlivosť.

Semicorex sa špecializuje na prispôsobenie komponentov potiahnutých CVD SiC tak, aby vyhovovali rôznym potrebám zariadení na tepelné spracovanie, vrátane:

Difúzory:Zvýšte rovnomernosť distribúcie plynu a konzistenciu procesu.

Izolátory:Zabezpečte tepelnú izoláciu a ochranu v prostredí s vysokou teplotou.

Ďalšie vlastné tepelné komponenty:Riešenia na mieru navrhnuté tak, aby vyhovovali špecifickým procesným požiadavkám a optimalizovali výkon zariadenia.