TaC Coating Upper Halfmoon

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon je špeciálne navrhnutý komponent prispôsobený na dosiahnutie vysoko účinných epitaxiálnych procesov v oblasti výroby polovodičov. TaC Coating Upper Halfmoon je navrhnutý tak, aby bez problémov zapadol do epitaxiálnych reaktorov, čím poskytuje výnimočnú odolnosť a stabilitu v extrémnych podmienkach.

Povlak TaC ponúka vynikajúcu odolnosť voči vysokým teplotám, vďaka čomu je povlak TaC Upper Halfmoon ideálny pre náročné tepelné prostredia epitaxných procesov. To zaisťuje konzistentný výkon a dlhú životnosť, znižuje frekvenciu výmen a prestojov. TaC Coating Upper Halfmoon dokáže odolať korozívnym plynom a chemikáliám bežne používaným pri epitaxnom raste, pričom chráni integritu komponentu a zachováva čistotu procesu.

Hladký a rovnomerný povlak TaC zvyšuje kvalitu epitaxných vrstiev minimalizovaním defektov a nečistôt. To prispieva k vyšším výnosom a vynikajúcim elektronickým vlastnostiam polovodičových zariadení. Kombinácia tepelnej a chemickej odolnosti predlžuje prevádzkovú životnosť TaC Coating Upper Halfmoon a poskytuje nákladovo efektívne riešenie na udržanie vysokej priepustnosti a účinnosti pri výrobe polovodičov.

Aplikácie:

Procesy vysokoteplotného chemického nanášania pár (CVD).

Epitaxia karbidu kremíka (SiC) a nitridu gália (GaN).

Technické špecifikácie:

Materiál: Povlak z karbidu tantalu (TaC).

Teplotný rozsah: do 2200 °C

Chemická odolnosť: Výborná proti HF, HCl a iným korozívnym plynom

Rozmery: Prispôsobiteľné pre konkrétne modely reaktorov

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon je základným komponentom na dosiahnutie vysokokvalitných epitaxných vrstiev so zlepšenou účinnosťou a zníženým rizikom kontaminácie. Jeho pokročilé materiálové vlastnosti a precízne inžinierstvo z neho robia cenný prínos v polovodičovom priemysle, ktorý podporuje výrobu elektronických zariadení novej generácie.