Povlak z karbidu tantalu Halfmoon Part

Semicorex Tantalum Carbide Coating Halfmoon Part je vysoko špecializovaný komponent určený na aplikáciu v procese epitaxnej depozície. Tento diel Halfmoon potiahnutý karbidom tantalu je kľúčový v prostrediach, kde je nevyhnutná odolnosť voči vysokým teplotám, výnimočná životnosť a bezkonkurenčná chemická inertnosť.

Povlak z karbidu tantalu Halfmoon Part je vyrobený z vysoko čistého karbidu tantalu, ktorý ponúka vynikajúcu tepelnú vodivosť a extrémnu odolnosť voči vysokým teplotám a teplotným šokom. Povlak TaC poskytuje dodatočnú vrstvu ochrany pred korozívnymi chemikáliami a drsným prostredím typickým pre epitaxné reaktory. Povlak zvyšuje odolnosť a životnosť dielu a zaisťuje konzistentný výkon počas viacerých cyklov.

Povlak Halfmoon Part z karbidu tantalu je schopný odolávať teplotám až do 2200 °C, vďaka čomu je ideálny pre vysokoteplotné procesy. Vykazuje nízku reaktivitu s kremíkom a inými polovodičovými materiálmi, pričom zachováva integritu epitaxných vrstiev.

Povlak z karbidu tantalu Halfmoon Part primárne používaný v polovodičovom priemysle, konkrétne pri epitaxnom raste karbidu kremíka. Vhodné na použitie vo výskumných aj priemyselných epitaxných reaktoroch.