Krúžok CVD SiC Focus

Advanced Chemical Vapour Deposition (CVD) Proces

Proces CVD použitý pri výrobe CVD SiC Focus Ring zahŕňa presné nanášanie SiC do špecifických tvarov, po ktorom nasleduje dôsledné mechanické spracovanie. Táto metóda zaisťuje, že parametre odporu materiálu sú konzistentné, vďaka pevnému pomeru materiálu určenému po rozsiahlych experimentoch. Výsledkom je zaostrovací krúžok s bezkonkurenčnou čistotou a jednotnosťou.

Vynikajúca plazmová odolnosť

Jedným z najpresvedčivejších atribútov CVD SiC Focus Ring je jeho výnimočná odolnosť voči plazme. Vzhľadom na to, že zaostrovacie krúžky sú priamo vystavené plazme vo vákuovej reakčnej komore, potreba materiálu schopného vydržať takéto drsné podmienky je prvoradá. SiC s úrovňou čistoty 99,9995 % nielen zdieľa elektrickú vodivosť kremíka, ale ponúka aj vynikajúcu odolnosť voči iónovému leptaniu, vďaka čomu je ideálnou voľbou pre zariadenia na plazmové leptanie.

Vysoká hustota a znížený objem leptania

V porovnaní s kremíkovými (Si) zaostrovacími prstencami sa CVD SiC Focus Ring môže pochváliť vyššou hustotou, čo výrazne znižuje objem leptania. Táto vlastnosť je rozhodujúca pri predlžovaní životnosti zaostrovacieho krúžku a udržiavaní integrity procesu výroby polovodičov. Znížený objem leptania sa premieta do menšieho počtu prerušení a nižších nákladov na údržbu, čo v konečnom dôsledku zvyšuje efektivitu výroby.

Široká bandgap a vynikajúca izolácia

Široká bandgap SiC poskytuje vynikajúce izolačné vlastnosti, ktoré sú nevyhnutné na zabránenie nežiadúcich elektrických prúdov, aby rušili proces leptania. Táto charakteristika zaisťuje, že si zaostrovací krúžok udrží svoj výkon po dlhú dobu, dokonca aj v tých najnáročnejších podmienkach.

Tepelná vodivosť a odolnosť proti tepelnému šoku

Krúžky CVD SiC Focus majú vysokú tepelnú vodivosť a nízky koeficient rozťažnosti, vďaka čomu sú vysoko odolné voči tepelným šokom. Tieto vlastnosti sú obzvlášť výhodné v aplikáciách zahŕňajúcich rýchle tepelné spracovanie (RTP), kde zaostrovací krúžok musí vydržať intenzívne tepelné impulzy, po ktorých nasleduje rýchle ochladenie. Schopnosť CVD SiC Focus Ring zostať stabilná za takýchto podmienok ho robí nepostrádateľným v modernej výrobe polovodičov.

Mechanická pevnosť a odolnosť

Vysoká elasticita a tvrdosť CVD SiC Focus Ring poskytuje vynikajúcu odolnosť voči mechanickému nárazu, opotrebovaniu a korózii. Tieto atribúty zaisťujú, že zaostrovací krúžok dokáže vydržať prísne požiadavky na výrobu polovodičov, pričom si zachováva svoju štrukturálnu integritu a výkon v priebehu času.

Aplikácie v rôznych odvetviach

1. Výroba polovodičov

V oblasti výroby polovodičov je CVD SiC Focus Ring základnou súčasťou zariadení na leptanie plazmou, najmä tých, ktoré využívajú systémy kapacitne viazanej plazmy (CCP). Vysoká plazmová energia potrebná v týchto systémoch robí plazmovú odolnosť a trvanlivosť CVD SiC Focus Ring neoceniteľnou. Okrem toho je vďaka svojim vynikajúcim tepelným vlastnostiam veľmi vhodný pre aplikácie RTP, kde sú bežné cykly rýchleho ohrevu a chladenia.

2. LED nosiče plátkov

CVD SiC Focus Ring je tiež vysoko efektívny pri výrobe LED doštičiek. Tepelná stabilita materiálu a odolnosť voči chemickej korózii zaisťuje, že zaostrovací krúžok vydrží drsné podmienky počas výroby LED. Táto spoľahlivosť sa premieta do vyšších výnosov a kvalitnejších doštičiek LED.

3. Naprašovacie terče

V naprašovacích aplikáciách je CVD SiC Focus Ring vďaka vysokej tvrdosti a odolnosti voči opotrebovaniu ideálnou voľbou pre naprašovacie terče. Schopnosť zaostrovacieho krúžku zachovať si svoju štrukturálnu integritu pri vysokoenergetických nárazoch zaisťuje konzistentný a spoľahlivý výkon naprašovania, ktorý je rozhodujúci pri výrobe tenkých filmov a povlakov.