Nosiče plátkov MOCVD pre polovodičový priemysel

Semicorex MOCVD Wafer Carriers pre polovodičový priemysel je špičkový nosič určený pre použitie v polovodičovom priemysle. Jeho vysoko čistý materiál zaisťuje rovnomerný tepelný profil a laminárny vzor prúdenia plynu a dodáva vysokokvalitné doštičky.

Odoslať dopyt

Popis produktu

Naše nosiče doštičiek MOCVD pre polovodičový priemysel sú vysoko čisté, vyrobené chemickým nanášaním pár CVD za podmienok vysokoteplotnej chlorácie, čím sa zabezpečuje jednotnosť a konzistencia produktu. Je tiež vysoko odolný voči korózii, s hustým povrchom a jemnými časticami, vďaka čomu je odolný voči kyselinám, zásadám, soliam a organickým činidlám. Jeho odolnosť proti vysokoteplotnej oxidácii zaisťuje stabilitu pri vysokých teplotách až do 1600°C.
Kontaktujte nás ešte dnes a dozviete sa viac o našich nosičoch doštičiek MOCVD pre polovodičový priemysel.

Parametre nosičov doštičiek MOCVD pre polovodičový priemysel

Hlavné špecifikácie povlaku CVD-SIC
Vlastnosti SiC-CVD
Kryštálová štruktúra	FCC β fáza
Hustota	g/cm³	3.21
Tvrdosť	Tvrdosť podľa Vickersa	2500
Veľkosť zrna	μm	2~10
Chemická čistota	%	99.99995
Tepelná kapacita	J kg-1 K-1	640
Teplota sublimácie	℃	2700
Felexurálna sila	MPa (RT 4-bodové)	415
Youngov modul	Gpa (4pt ohyb, 1300 ℃)	430
Tepelná expanzia (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Tepelná vodivosť	(W/mK)	300

Vlastnosti grafitového susceptora potiahnutého SiC pre MOCVD

- Zabráňte odlupovaniu a zabezpečte povlak na celom povrchu
Odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote: Stabilná pri vysokých teplotách až do 1600 °C
Vysoká čistota: vyrobená chemickou depozíciou pár CVD za podmienok chlorácie pri vysokej teplote.
Odolnosť proti korózii: vysoká tvrdosť, hustý povrch a jemné častice.
Odolnosť proti korózii: kyselinám, zásadám, soliam a organickým činidlám.
- Dosiahnite najlepší vzor laminárneho prúdenia plynu
- Zaručiť rovnomernosť tepelného profilu
- Zabráňte šíreniu akejkoľvek kontaminácie alebo nečistôt