In semiconductor fabrication, etching is one of the major steps, along with photolithography and thin-film deposition. It involves removing unwanted materials from the surface of a wafer using chemical or physical methods. This step is carried out after coating, photolithography, and developing. It ......
Čítaj viacSubstrát SiC môže mať mikroskopické defekty, ako je dislokácia závitovej skrutky (TSD), dislokácia závitovej hrany (TED), dislokácia základnej roviny (BPD) a ďalšie. Tieto defekty sú spôsobené odchýlkami v usporiadaní atómov na atómovej úrovni. Kryštály SiC môžu mať tiež makroskopické dislokácie, ak......
Čítaj viacPodľa výsledkov výskumu môže povlak TaC pôsobiť ako ochranná a izolačná vrstva na predĺženie životnosti grafitových komponentov, zlepšenie rovnomernosti radiálnej teploty, zachovanie stechiometrie sublimácie SiC, potlačenie migrácie nečistôt a zníženie spotreby energie. V konečnom dôsledku sa od súp......
Čítaj viac