Produkty

Semicorex je profesionálny výrobcovia a dodávatelia v Číne. Naša továreň poskytuje sudový susceptor, mocvd susceptor, oblátkový čln atď. Extrémny dizajn, kvalitné suroviny, vysoký výkon a konkurencieschopná cena sú to, čo chce každý zákazník, a to je tiež to, čo vám môžeme ponúknuť. Berieme vysokú kvalitu, rozumnú cenu a perfektný servis.
View as  
 
Sudový susceptor potiahnutý SiC pre epitaxný rast LPE

Sudový susceptor potiahnutý SiC pre epitaxný rast LPE

Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor pre LPE epitaxný rast je vysoko výkonný produkt navrhnutý tak, aby poskytoval konzistentný a spoľahlivý výkon po dlhšiu dobu. Jeho rovnomerný tepelný profil, laminárny profil prúdenia plynu a zabránenie kontaminácii z neho robia ideálnu voľbu pre rast vysokokvalitných epitaxných vrstiev na doštičkových čipoch. Jeho prispôsobiteľnosť a nákladová efektívnosť z neho robia vysoko konkurencieschopný produkt na trhu.

Čítaj viacOdoslať dopyt
Hlavový prijímač Epi systém

Hlavový prijímač Epi systém

Semicorex Barrel Susceptor Epi System je vysoko kvalitný produkt, ktorý ponúka vynikajúcu priľnavosť povlaku, vysokú čistotu a odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote. Jeho rovnomerný tepelný profil, laminárny profil prúdenia plynu a zabránenie kontaminácii z neho robia ideálnu voľbu pre rast epixiálnych vrstiev na doštičkových čipoch. Jeho nákladová efektívnosť a prispôsobiteľnosť z neho robia vysoko konkurencieschopný produkt na trhu.

Čítaj viacOdoslať dopyt
Reaktorový systém s kvapalnou fázou epitaxie (LPE).

Reaktorový systém s kvapalnou fázou epitaxie (LPE).

Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System je inovatívny produkt, ktorý ponúka vynikajúci tepelný výkon, rovnomerný tepelný profil a vynikajúcu priľnavosť povlaku. Jeho vysoká čistota, odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote a odolnosť proti korózii z neho robia ideálnu voľbu pre použitie v polovodičovom priemysle. Jeho prispôsobiteľné možnosti a nákladová efektívnosť z neho robia vysoko konkurencieschopný produkt na trhu.

Čítaj viacOdoslať dopyt
CVD epitaxná depozícia v barelovom reaktore

CVD epitaxná depozícia v barelovom reaktore

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor je vysoko odolný a spoľahlivý produkt na pestovanie epixálnych vrstiev na doštičkových čipoch. Jeho odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote a vysoká čistota ho predurčujú na použitie v polovodičovom priemysle. Jeho rovnomerný tepelný profil, laminárny profil prúdenia plynu a zabránenie kontaminácii z neho robia ideálnu voľbu pre vysoko kvalitný rast epixálnej vrstvy.

Čítaj viacOdoslať dopyt
Epitaxná depozícia kremíka v sudovom reaktore

Epitaxná depozícia kremíka v sudovom reaktore

Ak potrebujete vysokovýkonný grafitový susceptor na použitie v aplikáciách výroby polovodičov, Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor je ideálnou voľbou. Jeho vysoko čistý SiC povlak a výnimočná tepelná vodivosť poskytujú vynikajúcu ochranu a vlastnosti distribúcie tepla, čo z neho robí ideálnu voľbu pre spoľahlivý a konzistentný výkon aj v tých najnáročnejších prostrediach.

Čítaj viacOdoslať dopyt
Indukčne vyhrievaný barel Epi systém

Indukčne vyhrievaný barel Epi systém

Ak potrebujete grafitový susceptor s výnimočnou tepelnou vodivosťou a vlastnosťami distribúcie tepla, nehľadajte nič iné ako Semicorex Inductively Heated Barrel Epi System. Jeho vysoko čistý SiC povlak poskytuje vynikajúcu ochranu vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí, vďaka čomu je ideálnou voľbou pre použitie v aplikáciách výroby polovodičov.

Čítaj viacOdoslať dopyt
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept