Semicorex PSS etching Carrier Plate for Semiconductor je špeciálne navrhnutá pre vysokoteplotné a drsné chemické čistiace prostredia potrebné pre epitaxný rast a procesy manipulácie s plátkami. Naša ultra čistá PSS leptacia nosná doska pre polovodiče je navrhnutá tak, aby podporovala doštičky počas fáz nanášania tenkých vrstiev, ako sú MOCVD a epitaxné susceptory, placky alebo satelitné platformy. Náš nosič potiahnutý SiC má vysokú odolnosť voči teplu a korózii, vynikajúce vlastnosti distribúcie tepla a vysokú tepelnú vodivosť. Našim zákazníkom poskytujeme cenovo výhodné riešenia a naše produkty pokrývajú mnohé európske a americké trhy. Semicorex sa teší, že bude vaším dlhodobým partnerom v Číne.
Čítaj viacOdoslať dopytNosiče plátkov používané pri epixiálnom raste a spracovaní plátkov musia vydržať vysoké teploty a drsné chemické čistenie. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier navrhnutý špeciálne pre tieto náročné aplikácie epitaxných zariadení. Naše produkty majú dobrú cenovú výhodu a pokrývajú mnohé z európskych a amerických trhov. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor pre LPE epitaxný rast je vysoko výkonný produkt navrhnutý tak, aby poskytoval konzistentný a spoľahlivý výkon po dlhšiu dobu. Jeho rovnomerný tepelný profil, laminárny profil prúdenia plynu a zabránenie kontaminácii z neho robia ideálnu voľbu pre rast vysokokvalitných epitaxných vrstiev na doštičkových čipoch. Jeho prispôsobiteľnosť a nákladová efektívnosť z neho robia vysoko konkurencieschopný produkt na trhu.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex Barrel Susceptor Epi System je vysoko kvalitný produkt, ktorý ponúka vynikajúcu priľnavosť povlaku, vysokú čistotu a odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote. Jeho rovnomerný tepelný profil, laminárny profil prúdenia plynu a zabránenie kontaminácii z neho robia ideálnu voľbu pre rast epixiálnych vrstiev na doštičkových čipoch. Jeho nákladová efektívnosť a prispôsobiteľnosť z neho robia vysoko konkurencieschopný produkt na trhu.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System je inovatívny produkt, ktorý ponúka vynikajúci tepelný výkon, rovnomerný tepelný profil a vynikajúcu priľnavosť povlaku. Jeho vysoká čistota, odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote a odolnosť proti korózii z neho robia ideálnu voľbu pre použitie v polovodičovom priemysle. Jeho prispôsobiteľné možnosti a nákladová efektívnosť z neho robia vysoko konkurencieschopný produkt na trhu.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor je vysoko odolný a spoľahlivý produkt na pestovanie epixálnych vrstiev na doštičkových čipoch. Jeho odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote a vysoká čistota ho predurčujú na použitie v polovodičovom priemysle. Jeho rovnomerný tepelný profil, laminárny profil prúdenia plynu a zabránenie kontaminácii z neho robia ideálnu voľbu pre vysoko kvalitný rast epixálnej vrstvy.
Čítaj viacOdoslať dopyt