Nosná doska Semicorex SiC Graphite RTP pre MOCVD ponúka vynikajúcu tepelnú odolnosť a tepelnú rovnomernosť, vďaka čomu je dokonalým riešením pre aplikácie na spracovanie polovodičových doštičiek. S vysoko kvalitným grafitom potiahnutým SiC je tento produkt navrhnutý tak, aby odolal aj tým najtvrdším depozičným podmienkam pre epitaxný rast. Vysoká tepelná vodivosť a vynikajúce vlastnosti distribúcie tepla zaisťujú spoľahlivý výkon pre RTA, RTP alebo drsné chemické čistenie.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex SiC Coated RTP Nosná doska pre epitaxný rast je dokonalým riešením pre aplikácie spracovania polovodičových plátkov. So svojimi vysokokvalitnými uhlíkovými grafitovými susceptormi a kremennými téglikmi spracovanými MOCVD na povrchu grafitu, keramiky atď. je tento produkt ideálny na manipuláciu s plátkami a spracovanie epitaxného rastu. Nosič potiahnutý SiC zaisťuje vysokú tepelnú vodivosť a vynikajúce vlastnosti distribúcie tepla, vďaka čomu je spoľahlivou voľbou pre RTA, RTP alebo drsné chemické čistenie.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex RTP nosič pre MOCVD epitaxný rast je ideálny pre aplikácie spracovania polovodičových plátkov, vrátane epitaxného rastu a spracovania plátkov. Uhlíkové grafitové susceptory a kremenné tégliky spracováva MOCVD na povrch grafitu, keramiky atď. Naše výrobky majú dobrú cenovú výhodu a pokrývajú mnohé z európskych a amerických trhov. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne.
Čítaj viacOdoslať dopytSiC doska spoločnosti Semicorex pre proces leptania ICP je dokonalým riešením pre požiadavky na vysokoteplotné a náročné chemické spracovanie pri nanášaní tenkých vrstiev a manipulácii s plátkami. Náš produkt sa môže pochváliť vynikajúcou tepelnou odolnosťou a rovnomernou tepelnou rovnomernosťou, čo zaisťuje konzistentnú hrúbku a odolnosť epi vrstvy. Vďaka čistému a hladkému povrchu poskytuje náš vysoko čistý kryštálový povlak SiC optimálnu manipuláciu s nedotknutými doštičkami.
Čítaj viacOdoslať dopyt