SiC doska spoločnosti Semicorex pre proces leptania ICP je dokonalým riešením pre požiadavky na vysokoteplotné a náročné chemické spracovanie pri nanášaní tenkých vrstiev a manipulácii s plátkami. Náš produkt sa môže pochváliť vynikajúcou tepelnou odolnosťou a rovnomernou tepelnou rovnomernosťou, čo zaisťuje konzistentnú hrúbku a odolnosť epi vrstvy. Vďaka čistému a hladkému povrchu poskytuje náš vysoko čistý kryštálový povlak SiC optimálnu manipuláciu s nedotknutými doštičkami.
Dosiahnite najvyššiu kvalitu procesov epitaxie a MOCVD pomocou SiC doštičky Semicorex pre proces leptania ICP. Náš produkt je navrhnutý špeciálne pre tieto procesy a ponúka vynikajúcu odolnosť voči teplu a korózii. Náš jemný kryštálový povlak SiC poskytuje čistý a hladký povrch, čo umožňuje optimálnu manipuláciu s plátkami.
Naša doska SiC pre proces leptania ICP je navrhnutá tak, aby sa dosiahol najlepší vzor laminárneho prúdenia plynu a zabezpečila sa rovnomernosť tepelného profilu. To pomáha predchádzať akejkoľvek kontaminácii alebo difúzii nečistôt a zabezpečuje vysokokvalitný epitaxiálny rast na doštičkovom čipe.
Kontaktujte nás ešte dnes, aby ste sa dozvedeli viac o našej SiC doske pre proces leptania ICP.
Parametre SiC platne pre proces ICP leptania
Hlavné špecifikácie povlaku CVD-SIC |
||
Vlastnosti SiC-CVD |
||
Kryštálová štruktúra |
FCC β fáza |
|
Hustota |
g/cm³ |
3.21 |
Tvrdosť |
Tvrdosť podľa Vickersa |
2500 |
Veľkosť zrna |
μm |
2~10 |
Chemická čistota |
% |
99.99995 |
Tepelná kapacita |
J kg-1 K-1 |
640 |
Teplota sublimácie |
℃ |
2700 |
Felexurálna sila |
MPa (RT 4-bodové) |
415 |
Youngov modul |
Gpa (4pt ohyb, 1300 ℃) |
430 |
Tepelná expanzia (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Tepelná vodivosť |
(W/mK) |
300 |
Vlastnosti SiC platne pre proces ICP leptania
- Zabráňte odlupovaniu a zabezpečte povlak na celom povrchu
Odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote: Stabilná pri vysokých teplotách až do 1600 °C
Vysoká čistota: vyrobená chemickou depozíciou pár CVD za podmienok chlorácie pri vysokej teplote.
Odolnosť proti korózii: vysoká tvrdosť, hustý povrch a jemné častice.
Odolnosť proti korózii: kyselinám, zásadám, soliam a organickým činidlám.
- Dosiahnite najlepší vzor laminárneho prúdenia plynu
- Zaručiť rovnomernosť tepelného profilu
- Zabráňte šíreniu akejkoľvek kontaminácie alebo nečistôt