ICP držiak leptacieho plátku Semicorex je dokonalým riešením pre procesy manipulácie s plátkami pri vysokej teplote, ako je epitaxia a MOCVD. Vďaka stabilnej odolnosti voči oxidácii pri vysokej teplote až do 1600 °C naše nosiče zaisťujú rovnomerné tepelné profily, laminárne vzory prúdenia plynu a zabraňujú kontaminácii alebo difúzii nečistôt.
Čítaj viacOdoslať dopytAk potrebujete grafitový susceptor s výnimočnou tepelnou vodivosťou a vlastnosťami distribúcie tepla, nehľadajte nič iné ako Semicorex Inductively Heated Barrel Epi System. Jeho vysoko čistý SiC povlak poskytuje vynikajúcu ochranu vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí, vďaka čomu je ideálnou voľbou pre použitie v aplikáciách výroby polovodičov.
Čítaj viacOdoslať dopytVďaka svojej výnimočnej tepelnej vodivosti a vlastnostiam distribúcie tepla je sudová štruktúra Semicorex pre polovodičový epitaxný reaktor ideálnou voľbou pre použitie v procesoch LPE a iných aplikáciách výroby polovodičov. Jeho vysoko čistý SiC povlak poskytuje vynikajúcu ochranu vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí.
Čítaj viacOdoslať dopytGrafitová hlaveň potiahnutá karbidom kremíka Semicorex je dokonalou voľbou pre aplikácie výroby polovodičov, ktoré vyžadujú vysokú odolnosť voči teplu a korózii. Jeho výnimočná tepelná vodivosť a vlastnosti distribúcie tepla ho predurčujú na použitie v procesoch LPE a iných vysokoteplotných prostrediach.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex Silicon Carbide Coated Barrel Susceptor je vysokokvalitný grafitový produkt potiahnutý vysoko čistým SiC, ktorý ponúka výnimočnú odolnosť voči teplu a korózii. Je špeciálne navrhnutý pre aplikácie LPE v priemysle výroby polovodičov.
Čítaj viacOdoslať dopyt