Nosný zásobník PSS na leptanie na spracovanie plátkov

Semicorex PSS leptací nosič na spracovanie plátkov je špeciálne navrhnutý pre náročné aplikácie epitaxných zariadení. Náš ultračistý grafitový nosič je ideálny pre fázy nanášania tenkých vrstiev, ako je MOCVD, epitaxné susceptory, palacinkové alebo satelitné platformy a spracovanie doštičiek, ako je leptanie. PSS leptací nosič na spracovanie plátkov má vysokú tepelnú odolnosť a odolnosť proti korózii, vynikajúce vlastnosti distribúcie tepla a vysokú tepelnú vodivosť. Naše produkty sú cenovo výhodné a majú dobrú cenovú výhodu. Obstarávame mnohé európske a americké trhy a tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne.

Odoslať dopyt

Popis produktu

Podnos PSS na leptanie na spracovanie plátkov od spoločnosti Semicorex je navrhnutý pre drsné prostredie, ktoré si vyžaduje epitaxný rast a procesy manipulácie s plátkami. Náš ultračistý grafitový nosič je navrhnutý tak, aby podporoval doštičky počas fáz nanášania tenkých vrstiev, ako sú MOCVD a epitaxné susceptory, palacinky alebo satelitné platformy. Nosič potiahnutý SiC má vysokú odolnosť voči teplu a korózii, vynikajúce vlastnosti rozvádzania tepla a vysokú tepelnú vodivosť. Naše produkty sú cenovo výhodné a ponúkajú dobrú cenovú výhodu.

Parametre nosiča PSS leptania na spracovanie plátkov

Hlavné špecifikácie povlaku CVD-SIC
Vlastnosti SiC-CVD
Kryštálová štruktúra	FCC β fáza
Hustota	g/cm³	3.21
Tvrdosť	Tvrdosť podľa Vickersa	2500
Veľkosť zrna	μm	2~10
Chemická čistota	%	99.99995
Tepelná kapacita	J kg-1 K-1	640
Teplota sublimácie	℃	2700
Felexurálna sila	MPa (RT 4-bodové)	415
Youngov modul	Gpa (4pt ohyb, 1300 ℃)	430
Tepelná expanzia (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Tepelná vodivosť	(W/mK)	300