Epitaxná monokryštalická Si doska

Epitaxná monokryštalická Si doska zapuzdruje vrchol jemnosti, odolnosti a spoľahlivosti pre aplikácie týkajúce sa grafitovej epitaxie a manipulácie s plátkami. Vyznačuje sa hustotou, rovinnosťou a schopnosťami tepelného manažmentu, vďaka čomu je optimálnou voľbou pre náročné prevádzkové podmienky. Záväzok spoločnosti Semicorex poskytovať špičkovú kvalitu na trhu v spojení s konkurenčnými fiškálnymi úvahami posilňuje našu horlivosť nadviazať partnerstvá pri plnení požiadaviek na prepravu vašich polovodičových plátkov.

Odoslať dopyt

Popis produktu

Prvoradá vlastnosť epitaxnej monokryštálovej Si doštičky spočíva v jej vynikajúcej hustote. Integrácia grafitového substrátu s povlakom z karbidu kremíka poskytuje komplexnú hustotu, ktorá je vhodná na tienenie proti náročným podmienkam vyskytujúcim sa vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí. Navyše, susceptor potiahnutý karbidom kremíka, prispôsobený na syntézu monokryštálov, sa môže pochváliť výnimočne rovnomerným profilom povrchu – kritickým determinantom pre trvalú výrobu doštičiek bezchybnej kvality.

Rovnako kľúčové pre dizajn nášho produktu je zmiernenie rozdielov v tepelnej rozťažnosti medzi grafitovým jadrom a jeho krytom z karbidu kremíka. Takáto inovácia výrazne zvyšuje adhéznu robustnosť, čím sa obchádza fenomén trhlín a stratifikácie. V súlade s tým vykazuje epitaxná monokryštálová Si doska zvýšenú tepelnú vodivosť spojenú s chvályhodným sklonom k rovnomernému rozdeľovaniu tepla – faktory, ktoré sú nápomocné pri dosahovaní homogenity teploty počas výrobného cyklu.

Epitaxná monokryštálová Si doska navyše demonštruje chvályhodnú odolnosť voči oxidačnej a korozívnej degradácii pri zvýšených teplotách, čo podporuje jej životnosť a spoľahlivosť. Jeho prahová hodnota pre tepelnú odolnosť je podčiarknutá významným bodom topenia, čím sa zabezpečuje jeho schopnosť vydržať náročné tepelné prostredie, ktoré je vlastné profesionálnej výrobe polovodičov.