Semicorex Graphite Thermal Field kombinuje špičkovú materiálovú vedu s hlbokým porozumením procesov rastu kryštálov a prináša inovatívne riešenie, ktoré umožňuje polovodičovému priemyslu dosahovať nové úrovne výkonu, účinnosti a nákladovej efektívnosti.**
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex LPE SiC-Epi Halfmoon je nepostrádateľným prínosom vo svete epitaxie a poskytuje robustné riešenie problémov, ktoré predstavujú vysoké teploty, reaktívne plyny a prísne požiadavky na čistotu.**
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex CVD TaC Coating Cover sa stáva kritickou podpornou technológiou v náročných prostrediach v rámci epitaxných reaktorov, ktoré sa vyznačujú vysokými teplotami, reaktívnymi plynmi a prísnymi požiadavkami na čistotu, ktoré si vyžadujú robustné materiály na zabezpečenie konzistentného rastu kryštálov a zabránenie nežiaducim reakciám.**
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex Graphite Single Silicon Pulling Tools sa objavujú ako neospevovaní hrdinovia v ohnivom tégliku pecí na rast kryštálov, kde teploty stúpajú a presnosť vládne na vrchole. Vďaka ich pozoruhodným vlastnostiam, zdokonaleným inovatívnou výrobou, sú nevyhnutné pre vznik bezchybného monokryštálového kremíka.**
Čítaj viacOdoslať dopytVodiaci krúžok Semicorex TaC Coating Guide slúži ako prvoradá súčasť zariadenia na organické chemické vylučovanie z plynnej fázy (MOCVD) a zabezpečuje presné a stabilné dodávanie prekurzorových plynov počas procesu epitaxného rastu. Vodiaci krúžok povlaku TaC predstavuje rad vlastností, vďaka ktorým je ideálny na odolávanie extrémnym podmienkam vyskytujúcim sa v komore reaktora MOCVD.**
Čítaj viacOdoslať dopytZáväzok spoločnosti Semicorex ku kvalite a inováciám je evidentný v segmente SiC MOCVD Cover. Tým, že umožňuje spoľahlivú, efektívnu a vysokokvalitnú SiC epitaxiu, hrá dôležitú úlohu pri zlepšovaní schopností polovodičových zariadení novej generácie.**
Čítaj viacOdoslať dopyt