Produkty

Potiahnuté dosky SEMicorex RTP SIC sú vysokovýkonné nosiče oblátky navrhnutých na použitie pri náročných prostrediach rýchleho tepelného spracovania. Spoločnosť Semicorex, ktorým dôveruje popredných výrobcov polovodičov

Semicorex RTP Ring je grafitový krúžok potiahnutý SiC navrhnutý pre vysokovýkonné aplikácie v systémoch rýchleho tepelného spracovania (RTP). Vyberte si Semicorex pre našu pokročilú materiálovú technológiu, ktorá zaisťuje vynikajúcu odolnosť, presnosť a spoľahlivosť pri výrobe polovodičov.*

Grafitová nosná doska Semicorex RTP je dokonalým riešením pre aplikácie spracovania polovodičových plátkov, vrátane epitaxného rastu a spracovania plátkov. Náš produkt je navrhnutý tak, aby ponúkal vynikajúcu tepelnú odolnosť a tepelnú rovnomernosť, čím zaisťuje, že epitaxné susceptory sú vystavené depozícii s vysokou odolnosťou voči teplu a korózii.

Semicorex RTP SiC Coating Carrier ponúka vynikajúcu tepelnú odolnosť a tepelnú rovnomernosť, vďaka čomu je dokonalým riešením pre aplikácie spracovania polovodičových plátkov. S vysokokvalitným grafitom pokrytým SiC je tento produkt navrhnutý tak, aby odolal tomu najtvrdšiemu depozičnému prostrediu pre epitaxný rast. Vysoká tepelná vodivosť a vynikajúce vlastnosti distribúcie tepla zaisťujú spoľahlivý výkon pre RTA, RTP alebo drsné chemické čistenie.

Semicorex RTP/RTA SiC Coating Carrier je navrhnutý tak, aby odolal najťažším podmienkam prostredia nanášania. Vďaka vysokej odolnosti voči teplu a korózii je tento produkt navrhnutý tak, aby poskytoval optimálny výkon pre epitaxný rast. Nosič potiahnutý SiC má vysokú tepelnú vodivosť a vynikajúce vlastnosti distribúcie tepla, čo zaisťuje spoľahlivý výkon pre RTA, RTP alebo drsné chemické čistenie.

Nosná doska Semicorex SiC Graphite RTP pre MOCVD ponúka vynikajúcu tepelnú odolnosť a tepelnú rovnomernosť, vďaka čomu je dokonalým riešením pre aplikácie na spracovanie polovodičových doštičiek. S vysoko kvalitným grafitom potiahnutým SiC je tento produkt navrhnutý tak, aby odolal aj tým najtvrdším depozičným podmienkam pre epitaxný rast. Vysoká tepelná vodivosť a vynikajúce vlastnosti distribúcie tepla zaisťujú spoľahlivý výkon pre RTA, RTP alebo drsné chemické čistenie.