Nosič SiC Coated od spoločnosti Semicorex pre systém ICP Plazma Etching System je spoľahlivým a nákladovo efektívnym riešením pre procesy manipulácie s vysokoteplotnými plátkami, ako je epitaxia a MOCVD. Naše nosiče sú vybavené jemným kryštálovým povlakom SiC, ktorý poskytuje vynikajúcu tepelnú odolnosť, rovnomernú tepelnú rovnomernosť a trvácnu chemickú odolnosť.
Čítaj viacOdoslať dopytICP držiak leptacieho plátku Semicorex je dokonalým riešením pre procesy manipulácie s plátkami pri vysokej teplote, ako je epitaxia a MOCVD. Vďaka stabilnej odolnosti voči oxidácii pri vysokej teplote až do 1600 °C naše nosiče zaisťujú rovnomerné tepelné profily, laminárne vzory prúdenia plynu a zabraňujú kontaminácii alebo difúzii nečistôt.
Čítaj viacOdoslať dopytAk potrebujete grafitový susceptor s výnimočnou tepelnou vodivosťou a vlastnosťami distribúcie tepla, nehľadajte nič iné ako Semicorex Inductively Heated Barrel Epi System. Jeho vysoko čistý SiC povlak poskytuje vynikajúcu ochranu vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí, vďaka čomu je ideálnou voľbou pre použitie v aplikáciách výroby polovodičov.
Čítaj viacOdoslať dopytVďaka svojej výnimočnej tepelnej vodivosti a vlastnostiam distribúcie tepla je sudová štruktúra Semicorex pre polovodičový epitaxný reaktor ideálnou voľbou pre použitie v procesoch LPE a iných aplikáciách výroby polovodičov. Jeho vysoko čistý SiC povlak poskytuje vynikajúcu ochranu vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí.
Čítaj viacOdoslať dopytAk hľadáte vysoko výkonný grafitový susceptor pre použitie v aplikáciách výroby polovodičov, Semicorex SiC Coated Graphite Barrel Susceptor je ideálnou voľbou. Jeho výnimočná tepelná vodivosť a vlastnosti distribúcie tepla z neho robia ideálnu voľbu pre spoľahlivý a konzistentný výkon vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí.
Čítaj viacOdoslať dopytAk potrebujete grafitový susceptor, ktorý dokáže spoľahlivo a konzistentne fungovať aj v tých najnáročnejších vysokoteplotných a korozívnych prostrediach, Semicorex Barrel Susceptor pre epitaxiu v tekutej fáze je dokonalou voľbou. Jeho povlak z karbidu kremíka poskytuje vynikajúcu tepelnú vodivosť a distribúciu tepla, čím zaisťuje výnimočný výkon v aplikáciách výroby polovodičov.
Čítaj viacOdoslať dopyt