Semicorex je popredným nezávislým výrobcom grafitu s povlakom karbidu kremíka, presne obrábaného grafitu vysokej čistoty so zameraním na grafit s povlakom karbidu kremíka, keramiku z karbidu kremíka, MOCVP v oblasti výroby polovodičov. Náš nosič epitaxných plátkov GaN-on-SiC má dobrú cenovú výhodu a pokrýva mnohé európske a americké trhy. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom v Číne.
Čítaj viacOdoslať dopytMôžete si byť istí, že si v našej továrni kúpite nosič polovodičových plátkov pre zariadenia MOCVD. Polovodičové nosiče plátkov sú základnou súčasťou zariadenia MOCVD. Používajú sa na prepravu a ochranu polovodičových doštičiek počas výrobného procesu. Polovodičové nosiče plátkov pre zariadenia MOCVD sú vyrobené z vysoko čistých materiálov a sú navrhnuté tak, aby zachovali integritu plátkov počas spracovania.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex MOCVD Wafer Carriers pre polovodičový priemysel je špičkový nosič určený pre použitie v polovodičovom priemysle. Jeho vysoko čistý materiál zaisťuje rovnomerný tepelný profil a laminárny vzor prúdenia plynu a dodáva vysokokvalitné doštičky.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex SiC Coated Plate Carriers for MOCVD je vysokokvalitný nosič určený pre použitie v procese výroby polovodičov. Jeho vysoká čistota, vynikajúca odolnosť proti korózii a dokonca aj tepelný profil z neho robia vynikajúcu voľbu pre tých, ktorí hľadajú nosič, ktorý dokáže odolať požiadavkám procesu výroby polovodičov.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex je veľký výrobca a dodávateľ grafitových susceptorov potiahnutých karbidom kremíka v Číne. Grafitový susceptor Semicorex navrhnutý špeciálne pre epitaxné zariadenia s vysokou odolnosťou voči teplu a korózii v Číne. Náš nosič RTP RTA SiC Coated Carrier má dobrú cenovú výhodu a pokrýva mnohé z európskych a amerických trhov. Tešíme sa, že sa staneme vaším dlhodobým partnerom.
Čítaj viacOdoslať dopytSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor je vysoko odolný a spoľahlivý produkt na pestovanie epixálnych vrstiev na doštičkových čipoch. Jeho odolnosť proti oxidácii pri vysokej teplote a vysoká čistota ho predurčujú na použitie v polovodičovom priemysle. Jeho rovnomerný tepelný profil, laminárny profil prúdenia plynu a zabránenie kontaminácii z neho robia ideálnu voľbu pre vysoko kvalitný rast epixálnej vrstvy.
Čítaj viacOdoslať dopyt