SiC susceptor pre ICP Etch

Semicorex SiC Susceptor pre ICP Etch sa vyrába so zameraním na udržanie vysokých štandardov kvality a konzistencie. Robustné výrobné procesy použité na vytvorenie týchto susceptorov zaisťujú, že každá šarža spĺňa prísne výkonnostné kritériá a poskytuje spoľahlivé a konzistentné výsledky pri leptaní polovodičov. Okrem toho je spoločnosť Semicorex vybavená tak, aby ponúkala rýchle harmonogramy dodávok, čo je rozhodujúce pre udržanie kroku s požiadavkami na rýchly obrat v polovodičovom priemysle, čím sa zaisťuje, že výrobné termíny budú dodržané bez kompromisov v oblasti kvality. My v Semicorex sa venujeme výrobe a dodávaniu vysokovýkonných produktov. SiC susceptor pre ICP Etch, ktorý spája kvalitu s cenovou efektívnosťou.**

Odoslať dopyt

Popis produktu

Semicorex SiC Susceptor pre ICP Etch je známy svojou vynikajúcou tepelnou vodivosťou, ktorá umožňuje rýchle a rovnomerné rozloženie tepla po povrchu. Táto vlastnosť je rozhodujúca pre udržanie konzistentnej teploty počas procesu leptania, čím sa zabezpečí vysoká presnosť prenosu vzoru. Okrem toho nízky koeficient tepelnej rozťažnosti SiC minimalizuje rozmerové zmeny pri rôznych teplotách, čím zachováva štrukturálnu integritu a podporuje presné a rovnomerné odstraňovanie materiálu.

Jednou z výnimočných vlastností SiC susceptora pre ICP Etch je ich odolnosť voči nárazu plazmy. Táto odolnosť zaisťuje, že susceptor nedegraduje alebo neeroduje v drsných podmienkach plazmového bombardovania, ktoré je bežné pri týchto procesoch leptania. Táto odolnosť zvyšuje spoľahlivosť procesu leptania a prispieva k výrobe čistých, dobre definovaných vzorov leptania s minimálnou chybovosťou.

SiC susceptor pre ICP Etch je prirodzene odolný voči korózii silnými kyselinami a zásadami, čo je základná vlastnosť materiálov používaných v prostredí ICP leptania. Táto chemická odolnosť zaisťuje, že susceptor SiC pre ICP Etch si časom zachová svoje fyzikálne a mechanické vlastnosti, aj keď je vystavený agresívnym chemickým činidlám. Táto odolnosť znižuje potrebu častej výmeny a údržby, čím sa znižujú prevádzkové náklady a zvyšuje sa doba prevádzkyschopnosti zariadení na výrobu polovodičov.

Semicorex SiC Susceptor pre ICP Etch môže byť presne skonštruovaný tak, aby spĺňal špecifické rozmerové požiadavky, čo je kritický faktor pri výrobe polovodičov, kde je často potrebné prispôsobenie na prispôsobenie sa rôznym veľkostiam plátkov a špecifikáciám spracovania. Táto prispôsobivosť umožňuje lepšiu integráciu s existujúcimi zariadeniami a procesnými linkami, čím sa optimalizuje celková účinnosť a efektívnosť procesu leptania.