Procesný ohrievač oblátok

Semicorex Wafer Process Heater je vyrobený z grafitu Silicon Carbide Coating (SiC), povlak sa nanáša metódou CVD na špecifické druhy grafitu s vysokou hustotou, takže môže pracovať vo vysokoteplotnej peci s teplotou nad 3000 °C v inertnej atmosfére, 2200 °C vo vákuu.
Špeciálne vlastnosti a nízka hmotnosť materiálu Wafer Process Heater umožňujú rýchle rýchlosti ohrevu, rovnomerné rozloženie teploty a vynikajúcu presnosť ovládania. V porovnaní s inými materiálmi zostáva povrch karbidu kremíka plochý vďaka svojej nízkej tepelnej rozťažnosti aj pri prevádzke s rýchlymi zmenami teplôt. Vyhrievacie platne sú veľmi vhodné pre náročné procesy v systémoch spracovania polovodičov.
V Semicorex sa zameriavame na poskytovanie vysokokvalitných a cenovo výhodných produktov našim zákazníkom. Náš ohrievač oblátok má cenovú výhodu a vyváža sa na mnohé európske a americké trhy. Naším cieľom je byť vaším dlhodobým partnerom, ktorý poskytuje produkty konzistentnej kvality a výnimočné služby zákazníkom.

Parametre procesného ohrievača plátkov

Vlastnosti procesného ohrievača plátkov

- CVD SiC povlaky na zlepšenie životnosti.
- Vysoká teplotná odolnosť, odolnosť proti korózii, dlhá životnosť, môže zlepšiť kvalitu a výťažok plátku.
- Má extrémne nízky koeficient tepelnej rozťažnosti, odolnosť voči vysokej teplote, vysokú odolnosť proti opotrebovaniu, dobrú izoláciu, dobrú chemickú stabilitu a takmer fialový (červený) prienik viditeľného svetla.

Môžeme poskytnúť antioxidačný grafitový téglik s dlhou životnosťou, grafitovú formu a všetky časti grafitového ohrievača.