Brúsna doska na doštičky SiC

Brúsna doska na doštičky SiCje kľúčovou súčasťou spracovania povrchu polovodičových doštičiek. Využitím presného zloženia mikroprášku karbidu kremíka a špičkového procesu beztlakového spekania poskytuje brúsna doska SiC doštičky efektívne brúsenie a presnú konečnú úpravu na povrchoch doštičiek, čím zásadne zabezpečuje stabilitu a výťažnosť následných postupov výroby polovodičov.

S presnou a efektívnou povrchovou úpravou plátku ako hlavnou funkciou dosahuje brúsna doska SiC plátku stabilné a kontrolovateľné trenie s povrchom plátku. V kombinácii s brúsnymi alebo leštiacimi kvapalinami špecifických pomerov pôsobí synergicky na odstránenie rôznych povrchových defektov spôsobených predbežnými procesmi, ako sú triesky, mikrotrhliny a otrepy hrán. Môže tiež dosiahnuť presnú kontrolu nad hrúbkou plátku a variáciou celkovej hrúbky (TTV) na úrovni mikrónov, čím poskytuje vysokokvalitný plátkový substrát s vynikajúcou kvalitou povrchu a stabilnými rozmerovými parametrami pre následné kľúčové procesy vo výrobe čipov, ako je fotolitografia a iónová implantácia.

Primárny výkon:

1.Extrémna tvrdosť.

2. Vysoká pevnosť v ohybe a modul pružnosti.

3.Vynikajúci koeficient tepelnej rozťažnosti.

4.Vynikajúca tepelná vodivosť.

5.Vynikajúca chemická odolnosť proti korózii.

Semicorex poskytuje našim váženým zákazníkom špičkové prispôsobené služby. Pomocou pokročilých CNC obrábacích centier spoločnosť Semicorex starostlivo a presne spracováva materiály z karbidu kremíka, aby vytvorila brúsnu dosku SiC so špecifickými rozmermi prispôsobenými špecifikáciám zákazníka. Aby sme zákazníkom mohli slúžiť vysokokvalitnými produktmi, musí brúsna doska Semicorex SiC prejsť prísnymi kontrolami kvality, ako sú rozmerová presnosť, pevnosť, tvrdosť a iné výkonnostné testy pred opustením továrne.