Silikónové zakrivené elektródy

Počas pokročilého leptacieho zariadenia je silikónová zakrivená elektróda zvyčajne namontovaná na vrchu leptacej komory smerom k polovodičovej doštičke. Kremíková zakrivená elektróda typicky funguje v spojení s elektrostatickým skľučovadlom, Si zaostrovacím krúžkom, Si okrajovým krúžkom, Si výfukovým krúžkom a Si tieniacim krúžkom, aby sa zabezpečili optimálne prevádzkové podmienky pre vysoko presné leptanie.

Funkcie silikónových zakrivených elektród Semicorex

1. Kompatibilné s komplexným leptaním 3D štruktúry

S výnimočnou schopnosťou 3D kontroly elektrického poľa, Semicorexkremíkové zakrivené elektródymôže dokonale zodpovedať geometrickým charakteristikám zložitých štruktúr. Špeciálny zakrivený dizajn umožňuje presné riadenie plazmy a optimalizovanú distribúciu energie, čo výrazne ovplyvňuje pomer strán a vertikálnosť bočných stien 3D leptania štruktúry a plne spĺňa požiadavky výrobnej linky na pokročilé baliace procesy a integráciu 3D IC.

2. Presná kontrola distribúcie leptacieho plynu

Silikónové zakrivené elektródy Semicorex majú na svojom povrchu viaceré rovnomerne rozmiestnené mikrootvory pre vstup leptacieho plynu do leptacej komory. Silikónové zakrivené elektródy Semicorex môžu dosiahnuť presnú kontrolu nad leptacím plynom a umožniť jeho rovnomernú distribúciu v leptacej komore, čím sa minimalizujú zmeny procesu spôsobené nerovnomernou distribúciou plynu.

Výhody silikónových zakrivených elektród Semicorex

1. Ultra vysoká čistota

Silikónové zakrivené elektródy Semicorex sú vyrobené z ultravysoko čistého monokryštálukremíkas úrovňou čistoty nad 99,9999999 %, ktorá ponúka vynikajúcu odolnosť voči erózii plazmou. Tento vysokoštandardný výber materiálu môže účinne zabrániť nechcenej kontaminácii spôsobenej vedľajšími produktmi leptania a zároveň výrazne predĺžiť životnosť silikónových zakrivených elektród.

2. Vynikajúce elektrické vlastnosti

Silikónové zakrivené elektródy Semicorex, vyrobené z monokryštálového kremíka pestovaného v MCZ, vykazujú vynikajúcu rovnomernosť odporu: ＜5 % a široký voliteľný rozsah odporu: nízke rozlíšenie. (<0,02), stredná rez. (1–4) a vysokým rozlíšením. (70 – 90).

3. Presné spracovanie presnosť

Vďaka vysoko presnému mechanickému spracovaniu dosahujú silikónové zakrivené elektródy Semicorex konzistentnú veľkosť pórov a rovnomerné rozloženie otvorov. Ich povrchy sú jemne leštené a brúsené: leštené (Ra < 0,1 μm) a brúsené (Ra < 1,6 μm), s celkovou presnosťou obrábania kontrolovanou v rozmedzí 0,03 mm.